界面新聞記者 | 馮雨晨

一則互動平臺“出口光刻機”的回復引發(fā)蘇大維格（300331.SZ）股價20CM漲停后再引來關注函。

9月14日午間休市期間，蘇大維格在互動平臺回復投資者“公司光刻機已實現(xiàn)向國內龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時，公司向國內相關芯片光刻機廠商提供了定位光柵尺部件。”以及“已關注到納米壓印光刻在集成電路和芯片制造領域具備替代傳統(tǒng)光刻的應用潛力，并在積極布局”。

正值光刻機概念火熱階段，當日下午，蘇大維格開盤后迅速拉升，直至20%漲停，成交額達到15.55億元，換手率高達25.89%。

質疑聲也紛至沓來，有報道指稱蘇大維格的“光刻機”并非真正的熱門光刻機，蘇大維格的光刻機為激光直寫光刻機，技術工藝和材料難度遠低于可用于各類芯片的批量生產的掩模光刻。

中航證券研報表示，泛半導體光刻技術可分為直寫光刻和掩模光刻。其中，直寫光刻精度較低，多用于IC后道封裝、低世代線平板顯示、PCB等領域；掩模光刻目前主流形式為投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工藝，后道先進封裝，以及中高世代線的FPD生產。

9月14日晚間，蘇大維格再在互動平臺回復，明確表示公司對外銷售的光刻機主要為激光直寫光刻機。

蘇大維格解釋了兩種光刻機類型，并提到目前公司對外銷售的光刻機主要為激光直寫光刻機，在科研教育領域具有一定市占率，在納米壓印光刻領域公司設備主要為自用，對外銷售金額與直寫光刻機相比較小；此外，公司也開發(fā)了投影掃描的光刻設備，擬應用于光伏電鍍銅圖形化領域，目前尚未實現(xiàn)銷售。

雖然蘇大維格迅速做進一步解釋，但9月15日一早，蘇大維格就收深交所關注函。監(jiān)管要求蘇大維格結合不同類型光刻設備的技術路線的差異，補充披露所生產光刻設備的具體類型、主要客戶及下游用途等情況，并核實說明其光刻設備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造、主要技術參數(shù)是否與業(yè)內龍頭廠商存在較大差等。

此外，監(jiān)管要求蘇大維格詳細說明納米壓印技術的具體用途、研發(fā)情況，以及在集成電路領域的布局情況險。按照要求，蘇大維格需在2023年9月22日前回復關注函。

值得一提的是，關注函中所用概念為“光刻設備”并非“光刻機”。此前有報道注意到，蘇大維格2023年半年報中表述和9月14日互動平臺上表述相似，其中提到的也是“光刻設備”。半年報提到：公司光刻設備已向國內某芯片龍頭企業(yè)實現(xiàn)銷售，并向國內廠商提供應用于IC芯片投影式光刻機的核心部件定位光柵尺產品。

因此，業(yè)內人士指出將“光刻設備”直寫“光刻機”是不專業(yè)行為，不排除是有意為之。

9月15日，蘇大維格證券部對界面新聞記者表示，“光刻機”表述此前在半年報、年報中均有所采用，今年半年報中，公司也明確提到“公司是國內領先的微納結構產品制造和技術服務商，通過自主研發(fā)微納光學關鍵制造設備——光刻機”等，公司在年報、半年報、互動易平臺對所涉光刻機、芯片光刻機等表述都是有明確定義的。

該人士進一步表示，目前也收到了交易所關注函，公司也將盡快盡快核對和積極回復。

二級市場方面，關注函難抵漲勢，截至9月15日午盤，蘇大維格繼續(xù)大漲13.13%，報收37.47元/股，市值較9月13日猛漲25.66億元，股價走出今年新高。